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반도체, 박막트랜지스터 평면디스플레이, 광전지(태양전지) 제조공정에서 플라즈마 식각과 반응챔버 세정, 열매체를 통한 온도조절에 쓰이는 것은 불소화합물(F-gas)이다. CF4, C2F6, CHF3, SF6, NF3 등이 대표적인 공정가스다.
이들 가스는 플라즈마 상태에서 반응성 높은 불소 라디칼을 만들어 실리콘·산화막을 선택적으로 깎아내고, 공정 후 챔버 내벽에 쌓인 잔류물을 제거하는 데 사용된다. 투입량이 전부 분해되지 않고 일부가 그대로 빠져나가기 때문에 공정배출로 산정하며, 대기 중 수명이 길고 지구온난화지수(GWP)가 수천~수만에 이를 만큼 커서 사용량이 적어도 배출량 기여가 크다. 그래서 전자산업 시설은 가스별 사용량과 배출저감장치(스크러버) 처리효율을 함께 관리한다.
질소화합물은 연소·화학공정에서 생성되는 NOx·N2O 계열 물질군이고, 백금화합물과 구리화합물은 촉매나 배선·도금 소재로 쓰일 뿐 식각·챔버 세정용 공정가스로 사용되지 않는다.