다음 중 화학적 기상도금(CVD)법으로 제조하지 않는 박막은? | [금속재료기사 필기] 22년 1회차 기출문제 상세 페이지

Cr₂₃C₆(또는 Cr₃C₂)은 크로뮴 카바이드로서 크로뮴의 낮은 기화도와 안정적인 전구체 확보의 어려움으로 인해 일반적인 CVD 공정으로는 직접 제조되지 않으며, 주로 물리기상도금(PVD), 스퍼터링, 또는 열화학 확산 방법으로 제조된다.
CVD법은 휘발성 전구체(precursor)를 기상으로 기화시켜 반응실 내에서 화학반응을 통해 박막을 증착하는 방법이다.
Si₃N₄: 실란과 암모니아의 반응으로 CVD 제조 가능하다.
SiO₂: 실란과 산화제의 반응으로 CVD 제조 가능하다.
MoSi₂: 몰리브덴과 실란 전구체의 반응으로 CVD 제조 가능하다.