반도체칩 생산에 반드시 사용되어야 하는 포토레지스트의 일반적인 특성과 … | [국회직 9급 전자공학개론] 19년 1회차 기출문제 상세 페이지

맞지 않는 설명은 포토레지스트를 칩 내부의 저항 형성 소재로 본 것이다.
포토레지스트는 포토리소그래피 공정에서 패턴을 옮기기 위해 잠시 도포하는 감광성 재료이며, 식각이나 이온주입 뒤에는 제거된다. 이름의 resist는 식각 등에 저항한다는 뜻으로, 전기저항과는 관계가 없다.
미세패턴 형성에 쓰는 감광액이라는 설명은 옳다.
빛에 대한 감응 특성에 따라 네거티브형과 포지티브형으로 나눈다는 설명은 옳다. 노광부가 남으면 네거티브형, 노광부가 제거되면 포지티브형이다.
반응에 따른 물성 변화, 특히 현상액에 대한 용해성 변화를 이용한다는 설명은 옳다.
광이나 전자선에 의해 화학 반응하는 고분자 화합물이라는 설명은 옳다.