반도체 재료의 정제에서 고순도의 실리콘(Si)을 얻을 수 있는 정제법은? | [컴퓨터응용밀링기능사 필기] 15년 2회차 기출문제 상세 페이지
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반도체 재료의 정제에서 고순도의 실리콘(Si)을 얻을 수 있는 정제법은?
1
인상법
2
대역정제법
3
존 레벨링법
4
플로팅 존법
해설
고순도의 실리콘을 얻을 수 있는 정제법은 플로팅 존법(부유대역법)이다.
도가니나 용기를 사용하지 않고 봉 형태의 재료 일부를 코일로 유도가열해 용융대를 만들어 이동시키므로, 용기에 의한 오염 없이 고순도 결정을 얻을 수 있다. 실리콘은 용융 상태에서 용기 재료와 반응하기 쉬워 이 방식이 적합하다.
인상법은 도가니에서 용융시킨 재료를 끌어올려 단결정을 성장시키는 방식이고, 대역정제법은 용기(보트)에 담은 재료에서 용융대를 이동시켜 불순물을 한쪽으로 모으는 방식이며, 존 레벨링법은 불순물을 결정 전체에 균일하게 분포시키는 방법이라는 점에서 차이가 있다.
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