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대기 중에 극히 미량으로 존재하는 가스 원소로 네온사인 등에도 사용되며… | [사진기능사 필기] 09년 2회차 기출문제 상세 페이지

1[사진기능사 필기] 09년 2회차
대기 중에 극히 미량으로 존재하는 가스 원소로 네온사인 등에도 사용되며 일렉트로닉 플레쉬 방전관이나 영사기의 광원, 스튜디오용 램프에 주로 사용되는 것은?
1
크세논
2
형광제
3
자외선
4
질소
해설

네온사인이나 전자플래시 방전관, 영사기·스튜디오 조명 광원으로 쓰이는, 대기 중 극히 미량 존재하는 기체는 크세논이다.

크세논은 방전관 안에서 강한 섬광을 순간적으로 방출할 수 있어 스트로보 광원으로 널리 쓰인다.

  • 형광제는 기체 원소가 아니라 발광을 돕는 첨가 물질을 가리키는 말이다.
  • 자외선은 기체가 아니라 빛의 한 종류다.
  • 질소는 대기의 주성분으로 극히 미량 존재하는 기체가 아니다.

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