셀레늄(Selenium) 등의 반도체 뒤에 금속판을 대고 균일한 전하를… | [침투비파괴검사기사 필기] 20년 1회차 기출문제 상세 페이지
1[침투비파괴검사기사 필기] 20년 1회차
셀레늄(Selenium) 등의 반도체 뒤에 금속판을 대고 균일한 전하를 준 후 시험체를 투과한 방사선에 노출되면 방사선의 강도에 따라 반도체의 저항이 작아지고 전하가 이동하여 방전하게 되는데, 여기에 반대 전하를 도포하면 육안으로 확인 가능한 영상이 형성되며 이에 적절한 수지를 도포함으로써 영상을 형성할 수 있다. 이 원리를 이용하는 방법은?
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건식 방사선 투과검사법(Xeroradiography)
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전자 방사선 투과검사법(Electron radiography)
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자동 방사선 투과검사법(Autoradiography)
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순간 방사선 투과검사법(Flash radiography)
해설
셀레늄 반도체에 균일한 전하를 부여한 후 방사선 노출로 반도체의 저항이 감소하고 전하가 이동·방전되는 현상을 이용하여, 반대 전하와 수지를 도포해 영상을 형성하는 방식은 건식 방사선 투과검사법(Xeroradiography)이다. 이 방법은 셀레늄 같은 광전도체(photoconductor)를 기반으로 하며, 방사선의 강도에 따른 전하 분포의 차이를 직접 시각화할 수 있는 원리에 기반한다.
다른 보기들은 전혀 다른 원리를 사용한다.
- 전자 방사선 투과검사법: 전자 화상(전자선 직접 이용)
- 자동 방사선 투과검사법: 자동 방사선 촬영(방사능 물질 자체가 방출하는 방사선 기록)
- 순간 방사선 투과검사법: 순간 방사선 촬영(매우 짧은 노출 시간)
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