PVD법의 특징에 대한 설명으로 틀린 것은? | [금속재료기사 필기] 22년 1회차 기출문제 상세 페이지
1[금속재료기사 필기] 22년 1회차
PVD법의 특징에 대한 설명으로 틀린 것은?
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코팅층의 표면이 균일하다.
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고순도의 코팅층을 얻을 수 있다.
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PVD법에는 진공증착, 음극스패터링, 이온플레이팅 등이 있다.
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헬륨 가스가 가압된 상태에서 주입되어야하기 때문에 가스 비용이 많이 든다.
해설
PVD(Physical Vapor Deposition)법은 고진공 상태에서 수행되는 공정이므로, 헬륨 같은 특정 가스를 가압 상태에서 주입할 필요가 없다. 오히려 CVD(Chemical Vapor Deposition)법에서 반응 가스를 사용하는 것이 특징이며, PVD는 물리적 증발/스패터링에 의존하기 때문에 헬륨 가스 가압 주입으로 가스 비용이 많이 든다는 설명이 틀렸다.
코팅층 표면이 균일하고, 고순도 코팅층을 얻을 수 있으며, 진공증착, 음극스패터링, 이온플레이팅 등의 방식이 포함되는 것은 모두 PVD법의 올바른 특징이다.
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