실리콘 반도체의 제조 공정을 진행 순서대로 가장 옳게 나열한 것은? | [해양경찰 무기공업화학] 25년 1회차 기출문제 상세 페이지

올바른 순서는 산화 → 감광제 도포 → 노광 → 식각이다.
먼저 산화막을 만들고, 감광제를 입힌 뒤 빛으로 패턴을 옮겨, 드러난 부분을 제거한다. 패턴이 먼저 만들어져야 식각할 수 있다.
산화 → 식각 → 감광제 도포 → 노광: 패턴이 없는 상태에서 식각이 먼저 와서 틀렸다.
감광제 도포 → 식각 → 산화 → 노광: 노광 전에 식각하고 산화막보다 감광제가 먼저라 틀렸다.
감광제 도포 → 산화 → 노광 → 식각: 산화막을 가공하려면 산화막 위에 감광제를 입혀야 하므로 틀렸다.