반도체 제조에 대한 설명으로 옳지 않은 것은? | [7급 국가직 기계공작법] 21년 1회차 기출문제 상세 페이지
1[7급 국가직 기계공작법] 21년 1회차
반도체 제조에 대한 설명으로 옳지 않은 것은?
1
클린룸의 청정도는 클래스(class) 등급으로 정의되며 클래스 10이 클래스 1000보다 청정하다.
2
화학기계적연마(CMP)는 웨이퍼를 연마하여 절단 작업에서 발생한 표면 결함 등을 제거하고 평탄화하는 공정이다.
3
스퍼터링은 금속 증착에 사용되는 방법으로 진공상태에서 고에너지 이온이 목표물에 충돌하면서 원자가 튀어나와 웨이퍼에 증착되는 공정이다.
4
산화는 박막 전체 혹은 특정 부분을 화학적으로 제거하는 공정이다.
해설
옳지 않은 것은 산화를 박막을 화학적으로 제거하는 공정이라고 한 설명이다.
박막을 선택적으로 제거하는 공정은 식각(에칭)이고, 산화는 실리콘 표면에 산화막을 성장시키는 공정이다.
- 클린룸 등급: 단위 부피당 허용 입자 수로 정하므로 클래스 숫자가 작을수록 청정하다.
- 화학기계적연마: 화학 작용과 기계적 연마를 함께 써서 웨이퍼 표면 결함을 제거하고 평탄화한다.
- 스퍼터링: 진공에서 이온이 타깃을 때려 튀어나온 원자를 웨이퍼에 증착하는 금속 증착법이다.
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