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1[9급 지방직 공업화학] 24년 1회차
반도체의 제조공정에서 사용되는 감광제(photoresist)에 관한 설명으로 옳은 것은?
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노광을 통해 분해되는 음성(negative) 감광제와 고분자화가 진행되는 양성(positive) 감광제로 구분된다.
2
사진공정(photolithography)은 ‘감광제 도포 → 현상 → 노광 → 식각’의 순서로 진행된다.
3
산화 실리콘 막과 도포된 감광제는 현상 공정을 통해 제거된다.
4
양성 감광제는 수성현상액을, 음성 감광제는 유기용매 현상액을 사용한다.
해설
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