진공증착법과 비교한 음극 스퍼터링에 대한 설명으로 틀린 것은? | [금속재료기사 필기] 22년 1회차 기출문제 상세 페이지
1[금속재료기사 필기] 22년 1회차
진공증착법과 비교한 음극 스퍼터링에 대한 설명으로 틀린 것은?
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음극 스퍼터링은 전류량과 생성피막의 두께가 정비례하므로 두께 조절이 쉽다.
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음극 스퍼터링은 진공증착법 보다 저진공에서 가능하다.
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음극 스퍼터링은 스퍼터 입자의 수가 많아서 도금속도가 빠르다.
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음극 스퍼터링은 튕겨진 입자가 큰 운동에너지를 가지고 있어서 막이 치밀하고 밀착도 좋다.
해설
음극 스퍼터링은 반응성 가스 분위기에서 낮은 압력 하에 작동하고 입자 수가 진공증착법보다 적어서 도금속도가 느린 것이 오히려 단점이다. 따라서 "스퍼터 입자의 수가 많아서 도금속도가 빠르다"는 것은 음극 스퍼터링의 특성에 맞지 않는다.
- 저진공 작동: 음극 스퍼터링은 진공증착법보다 저진공(약 0.1~1 Pa) 상태에서 작동하므로 맞다.
- 치밀한 막·밀착도: 스퍼터 입자는 고에너지로 기판에 충돌하여 막이 치밀하고 밀착도가 우수하므로 맞다.
- 전류량-두께 정비례: 전류량과 피막 두께는 정비례 관계로 두께 조절이 정밀하므로 맞다.
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