반도체 제조 공정에서 감광제를 구성하는 주요 기본요소가 아닌 것은? | [화공기사 필기] 15년 1회차 기출문제 상세 페이지
1[화공기사 필기] 15년 1회차
반도체 제조 공정에서 감광제를 구성하는 주요 기본요소가 아닌 것은?
1
고분자
2
용매
3
광감응제
4
현상액
해설
감광제(포토레지스트)는 고분자(수지), 용매, 광감응제가 기본 3대 구성요소이며, 이들이 혼합되어 하나의 감광액을 이룬다.
현상액(developer)은 노광 후 패턴을 형성하기 위해 별도로 사용하는 공정용 약품이지, 감광제 자체를 구성하는 성분이 아니다.
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