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반도체 제조 공정 중 패턴이 형성된 표면에서 원하는 부분을 화학반응 혹은 물리적 과정을 통 상세 페이지

1[화공기사 필기] 16년 1회차
반도체 제조 공정 중 패턴이 형성된 표면에서 원하는 부분을 화학반응 혹은 물리적 과정을 통하여 제거하는 공정을 의미하는 것은?
1
세정공정
2
에칭공정
3
포토리소그래피
4
건조공정
해설
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