반도체 제조 공정 중 패턴이 형성된 표면에서 원하는 부분을 화학반응 혹… | [화공기사 필기] 16년 1회차 기출문제 상세 페이지
1[화공기사 필기] 16년 1회차
반도체 제조 공정 중 패턴이 형성된 표면에서 원하는 부분을 화학반응 혹은 물리적 과정을 통하여 제거하는 공정을 의미하는 것은?
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세정공정
2
에칭공정
3
포토리소그래피
4
건조공정
해설
패턴이 형성된 반도체 표면에서 원하지 않는 부분을 화학적·물리적으로 깎아내는 공정은 에칭(etching)공정이다.
세정공정은 오염물 제거, 포토리소그래피는 감광막에 패턴을 형성하는 노광 공정이라는 점에서 재료를 선택적으로 제거하는 에칭과는 목적이 다르다.
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