반도체 제조공정 중 원하는 형태로 패턴이 형성된 표면에서 원하는 부분을… | [화공기사 필기] 17년 1회차 기출문제 상세 페이지
1[화공기사 필기] 17년 1회차
반도체 제조공정 중 원하는 형태로 패턴이 형성된 표면에서 원하는 부분을 화학반응 또는 물리적 과정을 통해 제거하는 공정은?
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리소그래피
2
에칭
3
세정
4
이온주입공정
해설
패턴이 형성된 표면에서 원하지 않는 부분을 화학적 또는 물리적으로 깎아내는 반도체 공정은 에칭이다.
리소그래피는 패턴 자체를 형성하는 공정이고, 세정은 오염물 제거, 이온주입은 불순물을 도핑하는 공정으로 각각 목적이 다르다.
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