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반도체공정 중 노광 후 포토레지스트로 보호되지 않는 부분을 선택적으로 제거하는 공정을 무엇 상세 페이지

1[화공기사 필기] 19년 1회차
반도체공정 중 노광 후 포토레지스트로 보호되지 않는 부분을 선택적으로 제거하는 공정을 무엇이라 하는가?
1
에칭
2
조립
3
박막형성
4
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