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1[화공기사 필기] 22년 2회차
반도체 제조과정 중에서 식각공정 후 행해지는 세정공정에 사용되는 piranha 용액의 주원료에 해당하는 것은?
1
질산, 암모니아
2
불산, 염화나트륨
3
에탄올, 벤젠
4
황산, 과산화수소
해설
Piranha 용액은 반도체 식각공정 후 유기물 제거를 위한 세정공정에 사용되는 강산화성 세정액으로, 황산(H₂SO₄)과 과산화수소(H₂O₂)를 주원료로 한다. 일반적으로 황산과 과산화수소를 3:1 또는 4:1의 부피비로 혼합하면 강력한 산화성을 지니게 되어 실리콘 웨이퍼 표면의 유기 오염물, 금속 입자, 포토레지스트 잔류물 등을 효과적으로 제거한다. 다른 보기들은 질산-암모니아(세미콘덕터 공정의 다른 세정에 사용), 불산-염화나트륨(불산은 실리콘 산화막 제거용), 에탄올-벤젠(유기용매) 등으로 piranha 용액의 구성과 무관하다.
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