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1[전기산업기사 필기] 18년 1회차
비투자율 ㎲, 자속밀도 B[Wb/m2]인 자계 중에 있는 m[Wb]의 자극이 받는 힘[N] 은?
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mBμ0μs\dfrac{mB}{\mu_0\mu_s}
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mBμ0\dfrac{mB}{\mu_0}
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μ0μsmB\dfrac{\mu_0\mu_s}{mB}
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mBμs\dfrac{mB}{\mu_s}
해설

자계 중에 놓인 자극이 받는 힘은 F=mH[N]F=mH\,[\mathrm{N}] 이다. 여기서 H는 그 지점의 자계의 세기이며, 문제에서 주어진 것은 자속밀도 B이므로 H로 바꿔야 한다.

자속밀도와 자계의 관계 B=μH=μ0μsHB=\mu H=\mu_0\mu_s H 에서 H=Bμ0μsH=\dfrac{B}{\mu_0\mu_s} 이므로, 자극이 받는 힘은 F=mBμ0μs[N]F=\dfrac{mB}{\mu_0\mu_s}\,[\mathrm{N}] 가 된다.

비투자율 μs는 무차원 값이므로 반드시 진공 투자율 μ0와 곱해 분모에 놓아야 한다. μs를 빠뜨리면 진공 중의 식이 되고, 분자로 올리면 투자율이 큰 매질일수록 힘이 커지는 잘못된 결과가 된다.

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