화학2부

1.&nbsp;&nbsp;&nbsp;포토레지스트 감광재료에 관한 화학의 발전에 있어서 화학증폭(chemical amplification)의 개 념은 지난 1980년대 초에 IBM 연구소에서 도입된 이래 그 화학적 원리와 응용에 대하여 경 쟁적으로 활발한 연구가 진행되어 고성능 포토레지스트 재료 및 공정 개발에 큰 진전이 이루 어지고 있다. (4점)1)&nbsp;&nbsp;&nbsp;‘( )’이란 어떤 현상을 말하는 것인지 설명해 보시오.광자 1개의 작용으로 생성된 활성종이 연쇄적 화학반응을 일으켜 결과적으로 양자 수율이 대폭적으로 증폭되는 현상&nbsp;&nbsp;2)&nbsp;&nbsp;&nbsp;화학증폭성 포토레지스트의 주요 구성 성분에 대해 써 보시오.광산발생제(PAG)와 산반응성 고분자 또는 화합물이 주요성분이다&nbsp;&nbsp;&nbsp;화학증폭

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1.   포토레지스트 감광재료에 관한 화학의 발전에 있어서 상세 페이지

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