작업장에서 입자상 물질을 대개 여과원리에 따라 시료를 채취한다. 여과지의 공극보다 작은 입 상세 페이지
116년-2회차-산업위생관리기사-필기
작업장에서 입자상 물질을 대개 여과원리에 따라 시료를 채취한다. 여과지의 공극보다 작은 입자가 여과지에 채취도는 기전은 여과이론으로 설명할 수 있는데 다음 중 여과이론에 관여하는 기전과 가장 거리가 먼 것은?
1
차단
2
확산
3
흡착
4
관성충돌
해설
여과지에 의한 입자 채취는 차단, 관성충돌, 확산, 중력침강, 정전기적 인력 등의 기전으로 설명되며, 이들은 여과지 표면이나 섬유에 입자가 물리적으로 걸리거나 부딪히거나 끌리는 현상이다.
흡착은 기체 분자가 고체 표면에 달라붙는 현상으로, 입자상 물질의 여과 포집기전과는 구분되는 개념이다.
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