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1[수질환경기사 필기] 26년 1회차
유도결합플라스마-질량분석법(ICP-MS)으로 물속 금속류를 분석할 때 발생하는 간섭과 그 대책에 관한 설명으로 옳은 것은?
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염소가 함유된 시료에서 비소(75As)가 받는 40Ar35Cl+ 간섭은 동중원소 간섭이므로, 분석 전 기기를 충분히 세정하면 제거할 수 있다.
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물리적 간섭을 막기 위하여 시료의 용존고체물질 농도는 2 % 이하로 유지하면 충분하며, 내부표준물질에 의한 보정은 적용하지 않는다.
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수은 분석에서 나타나는 메모리 간섭은 금(Au)을 첨가하여도 배제할 수 없으므로 반드시 내부표준물질을 첨가하여 보정한다.
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소듐이 과량 함유된 시료에서 구리 분석 시 63Cu 대신 간섭이 없는 질량수인 65Cu를 선택하여 분석할 수 있다.
해설
과량의 소듐(Na)이 함유된 시료에서 구리를 질량수 63으로 분석하면 나트륨화아르곤(40Ar23Na+)에 의한 다원자 이온간섭을 받는다. 이때는 간섭을 보정하거나, 간섭이 없는 질량수 65(65Cu)를 선택하여 분석할 수 있다.
나머지 보기가 틀린 이유는 다음과 같다.
- 비소(75As)가 받는 40Ar35Cl+ 간섭은 동중원소 간섭이 아니라 다원자 이온간섭이며, 보정을 실시하거나 매질을 일치시켜 대응한다(세정은 메모리 간섭의 대책이다).
- 물리적 간섭 방지를 위한 용존고체물질 농도 기준은 2 %가 아니라 0.2 % 이하이며, 그 보정에 내부표준물질을 사용할 수 있다.
- 수은의 메모리 간섭은 금(Au) 100 μg/L를 첨가하여 세정하면 배제할 수 있다.
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